Máy tẩy rửa Wafter cho trước - ủ (SGY40-06C) bao gồm một bàn cho ăn, bể rửa alkali siêu âm 1, bể rửa siêu âm siêu âm 2, bể rửa siêu âm Nguyên tắc làm việc của nó liên quan đến rung động cơ học với sự thâm nhập siêu âm mạnh để tác động đến bề mặt phôi, kết hợp với hiệu ứng khử nhiễm hóa học của chất làm sạch. Điều này đảm bảo sự tách biệt kỹ lưỡng, làm sạch và phản ứng của các mảnh đá quý và tạp chất, dẫn đến bề mặt sạch hơn.
Thông số sản phẩm
Dòng sản xuất:
Bàn cho ăn & tải thủ công → Bể rửa kiềm siêu âm 1 → Bể rửa kiềm siêu âm 2 → Bể rửa alkali siêu âm 3 → bể QDR → Bể rửa siêu âm 1 → Bể rửa siêu âm 2 → Dỡ tải.
Vật liệu chính:
Khung kim loại + vỏ pp. Xe tăng được làm bằng SUS316 và NPP.
Vận tải:
Vận chuyển cánh tay robot.
Các tính năng và ứng dụng sản phẩm
Được thiết kế để làm sạch chất nền Sapphire trước quá trình ủ.
Chi tiết sản phẩm
Khi kết hợp với một chất làm sạch phù hợp, nó sẽ loại bỏ các hạt khỏi chất nền sapphire một cách hiệu quả trước khi ủ wafer.
Các chất làm sạch và xử lý siêu âm không ảnh hưởng đến các tính chất vật lý của phôi và phôi không bị hư hại.
Kịch bản ứng dụng
Vào tháng 10 năm 2023, ba bộ Wafter Cleaner cho trước - ủ đã được vận hành và bắt đầu hoạt động tại trang web khách hàng cho Istar Wafer Qingdao.
Chú phổ biến: Wafer Cleaner cho trước - ủ, China Wafer Cleaner cho trước - Các nhà sản xuất ủ
